真空等離子設備
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真空等離子設備
真空等離子設備
 

使用氣體:N2/Ar/O2/CF4…

產生方式:真空狀態下,中高頻電源作用產生

作用方式:清洗、蝕刻、殺菌

應用領域:半導體封裝、晶圓晶片生產、LCM

產品詳細介紹
真空式等離子設備

等離子介紹:
    等離子為物質的第四態,即固態、液態、氣態、電漿。基本上可以把等離子看做是部份離子化的氣態。 物質由
分子構成,分子由原子構成,原子由帶正電的原子核和圍繞它的、帶負電的電子構成。當被加熱到足夠高的溫度
或其他原因,外層電子擺脫原子核的束縛成為自由電子。電子離開原子核,這個過程就叫做“電離”。這時,物
質就變成了由帶正電的原子核和帶負電的電子組成的、一團均勻的“漿糊”,這個漿糊就是等離子體,等離子中
含有中性的氣體分子、離化的分子、激態分子及電子。     
    根據等離子產生方式可以分為真空等離子和大氣等離子,兩種等離子有非常強的反應性,選擇不一樣的反應氣
體,可以進行不一樣的等離子反應,不一樣的等離子應用,例如:等離子清潔、蝕刻、去光阻、表面改質、電漿
殺菌、及電漿鍍膜等。

真空式等離子設備功能介紹:

1、腔體式多層電極設計:
     ♦ 腔體內部容積約110L                               
     ♦ 腔體材質為鋁合金AL7075
     ♦ 腔壁依據特殊工藝升級為冷卻功能
              

      

2、電極射頻導入和插銷設計:
      

3、電極板組件:
     
 

4、空陰極的電極設計:
     中空陰極的電極結構: 因為兩邊等電位的結構,使得在電場當中運動的電子在沒有碰撞到氣體分子(未實現電
     離而不產生等離子)的情況下,因為另一側等電位的電極特性而折返,反復在電場中震盪(此現象類似於一顆
     鋼珠在周邊等高的碗中來回做鐘擺運動),這樣利於提高電子本身撞擊到氣體分子的概率,從而大大提高了單
     位面積內產生的等離子濃度。進而實現更好的清潔效果。
     

5、 氣體流場設計,等離子均勻性好、無死角清洗:
       

6、閉環監控回饋:
     ♦ 設備所有工藝參數皆可以本地保存和監控,參數也可以通過聯網方式上傳MES,做產品記錄和追溯。
     ♦ 可以外掛掃碼槍做生產上下游的銜接追溯。
     ♦ 觀察窗+光電轉換電路的閉環監控系統,可將等離子產生後的可見光轉換為開關量信號。達到閉環監控等離子
        是否有工作輸出。