使用氣體:N2/Ar/O2/CF4…
產生方式:真空狀態下,中高頻電源作用產生
作用方式:清洗、蝕刻、殺菌
應用領域:半導體封裝、晶圓晶片生產、LCM
1、腔體式多層電極設計:
♦ 腔體內部容積約110L
♦ 腔體材質為鋁合金AL7075
♦ 腔壁依據特殊工藝升級為冷卻功能
2、電極射頻導入和插銷設計:
4、空陰極的電極設計:
中空陰極的電極結構: 因為兩邊等電位的結構,使得在電場當中運動的電子在沒有碰撞到氣體分子(未實現電
離而不產生等離子)的情況下,因為另一側等電位的電極特性而折返,反復在電場中震盪(此現象類似於一顆
鋼珠在周邊等高的碗中來回做鐘擺運動),這樣利於提高電子本身撞擊到氣體分子的概率,從而大大提高了單
位面積內產生的等離子濃度。進而實現更好的清潔效果。
5、 氣體流場設計,等離子均勻性好、無死角清洗:
6、閉環監控回饋:
♦ 設備所有工藝參數皆可以本地保存和監控,參數也可以通過聯網方式上傳MES,做產品記錄和追溯。
♦ 可以外掛掃碼槍做生產上下游的銜接追溯。
♦ 觀察窗+光電轉換電路的閉環監控系統,可將等離子產生後的可見光轉換為開關量信號。達到閉環監控等離子
是否有工作輸出。